拜登政府宣布,將以美國晶片 法案形式向Intel 提供將近79億美元,但比原先預期的85億美元減少6億美元補助額,但依然創下美國境內針對半導體產業振興計畫最大補助額度。
而Intel預計將此筆補助款用於位於亞利桑那州、奧勒岡州和新墨西哥州的擴廠計畫,而先前已經獲得20億美元補助的俄亥俄州擴廠計畫則尚未符合補助資格,但拜登政府內部高層指出,在Intel達成各項協議指標下,今年至少可獲得10億美元補助款。
目前Intel表示將在美國境內投資達1000億美元,目前更已經投入300億美元資金進行擴廠等用途,藉此推動民間使用晶片產品生產,同時也將協助美國軍方生產必要晶片。
至於現行擴場進度方面,由於美國政府先前發放補貼金額速度放緩,使得Intel延後原本位於俄亥俄州、斥資約200億美元的晶圓廠興建時程,確定無法在原訂2026年底完工,目前地一座工廠預計在2029年底前完成,第二座工廠則計畫在2030年之後完成,至於亞利桑那州工廠投入量產時程也延後至2025年。
不過,Intel目前也面臨財務營收表現不佳,同時近期更因產品設計等問題遭不少消費者、市場投資者質疑,使得執行長Pat Gelsinger必須構思更具體轉型計畫,讓Intel能進一步「重生」。
《原文刊登於合作媒體mashdigi,聯合新聞網獲授權轉載。》
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