揮別瀏海與邊框？傳iPhone 20週年紀念機規格曝光 這版本直上12GB記憶體

隨著蘋果逐步調整其智慧型手機的發布節奏，關於未來iPhone藍圖的硬體佈局也開始浮出檯面。綜合近期外媒與供應鏈消息，預計延後至2027年初發表的標準版iPhone 18，雖然在製程上可能面臨妥協以控制成本，但確認將迎來12GB記憶體的重大升級。另一方面，瞄準2027年「iPhone問世20週年」的紀念旗艦機種，傳蘋果正攜手Samsung Display開發無實體邊框的「四等深微曲面」OLED螢幕，試圖打造出宛如一整塊完美玻璃的終極夢幻機種。

遲來的標準版升級：直上12GB記憶體，為AI算力鋪路

根據最新的產業報告，標準版iPhone 18將不會在今年秋季的旗艦陣容中亮相，而是會延遲至2027年初，與傳聞中的iPhone 18e同步推出。

雖然發布時間推遲，但標準版用戶將迎來實質的效能躍進。分析師Dan Nystedt透露，搭載全新2nm製程A20處理器的標準版iPhone 18，其記憶體將從iPhone 17的8GB記憶體容量大幅提升50%至12GB。

這與蘋果去年在iPhone 17 Pro系列上的升級路徑相同，但相關消息也指出，為了在提升記憶體的同時控制終端售價，蘋果可能會在標準版的其他製造工藝上選擇「降級」，意味其可能在某些規格反而不如現有的iPhone 17。

20週年紀念款：三星定製微曲面面板，消滅實體邊框與開孔

相較於標準版的常規升級，蘋果針對2027年的「iPhone 20週年紀念機型」 (暫稱「iPhone XX」)，似乎正籌劃一次堪比當年iPhone X的顛覆性外觀重塑。

• 四等深微曲面設計：供應鏈消息指出，蘋果已要求Samsung Display開發客製化的「四等深微曲面」 (quad-curved)OLED顯示面板。有別於過去Android陣營容易邊緣誤觸且視覺變形的激進「瀑布螢幕」，微曲面設計目的是在於維持螢幕平整實用性的同時，透過邊緣微幅彎曲來隱藏黑邊，實現真正視覺上的「無邊框」 (Bezel-less)效果。

• COE無偏光片技術：此外，消息指稱用於「iPhone XX」的螢幕，將採用三星的COE (Color Filter on Encapsulation)無偏光片技術。透過移除傳統的偏光片層，並且將彩色濾光片直接塗佈於封裝層上，不僅能讓螢幕模組變得更加纖薄，還能在提升畫面亮度的同時進一步降低功耗。

而蘋果的最終目標，是準備打造一款沒有任何螢幕開孔、沒有實體邊框的「全玻璃」高階機種。

分析觀點

蘋果正在重新定義iPhone的產品階梯與生命週期。

將標準版iPhone 18延後發表，意味著蘋果秋季的重點將更純粹地聚焦在利潤最高的高階Pro系列機種，以及傳聞許久的折疊機種上。而下放12GB記憶體配置給標準版機種，顯然是為了讓Apple Intelligence在裝置側的龐大模型能更流暢運行；在生成式AI時代，記憶體容量已經取代了核心數，作為推動硬體迭代的最硬性指標。

至於20週年紀念機種的傳聞，則讓人看見蘋果對於終極工業設計的執念。採用無偏光片與微曲面設計，是目前業界在維持螢幕素質前提下，消滅實體黑邊的最有效設計方案。

若蘋果真能在2027年成功整合這些面板技術，並且配合成熟的螢幕下鏡頭 (UDC)，這款象徵「一片純粹玻璃」的20週年紀念機，勢必將再次定義未來十年的智慧型手機外觀標準。

《原文刊登於合作媒體mashdigi，聯合新聞網獲授權轉載。》